WIN LABUDA | ERFINDUNGEN
Win Labuda hat in den vergangenen 30 Jahren zusammen mit dem schwäbischen Ingenieur Klaus Schöttle eine Reihe von Methoden und Prüfgeräten zur Messung der wichtigsten Gebrauchsparameter von Reinraumtüchern entwickelt. Die Parameter sind: Partikel- und Faserabrieb, dynamische Flüssigkeitsaufnahme, spezifische Reinigungs-Effektivität und -zeit sowie Luftpartikel-Freisetzung bei der Handhabung. Die Geräte stehen im
Clear & Clean-Forschungslabor Reinraum-Betreibern zur Verfügung. Labudas Prüfmethoden wurden vom
DTNW - Deutsches Textilforschungszentrum Nordwest - geprüft und empfohlen.
Linear-Wischsimulator Mark I nach Labuda
Simulator zur Durchführung reproduzierbarer Wischvorgänge zur wissenschaftlichen Untersuchung des Masse-Abtrags gezielt verunreinigter Oberflächen. Dazu gehören Glas-, Metall- und Kunststoff-Platten als auch unterschiedliches Verunreiniger-Material. Beispielsweise kann der Abtrag von partikulären und filmischen Verunreinigungen sowie deren Rück-Übertragung auf Objekt-Oberflächen im Rahmen wischender Reinigungsprozeduren untersucht werden. Auch die Einflüsse der Wisch-Geschwindigkeit und des Vertikaldrucks auf die Reinigungs-Effektivität von HiTech-Reinigungs-Tüchern lassen sich so sehr gut untersuchen.
Linear-Wischsimulator Mark II-A nach Labuda
Der Linear-Wischsimulator Typ MarkII-A mit einer Gleitplatte aus Glas kann wahlweise mit einer metallischen Gleitplatte versehen werden (Typ MarkII-B). In derselben befindet sich eine Ausnehmung für die passgerechte Aufnahme hochgradig reiner oder gezielt verunreinigter Schwingquarz-Plättchen. Das Plättchen ist auf die Quarzwaage Typ QCM-200 abgestimmt. Die gezielte Verunreinigung der metallischen Gleitplatte oder aber der Oberfläche des Quarz-Plättchens ist gefolgt von einer wischenden Reinigungs-Prozedur mittels HiTech-Reinigungstüchern unterschiedlicher Beschaffenheit. Eine Besonderheit dieses Systems ist es, dass unterhalb einer transparenten Prüf-Oberfläche eine Hochgeschwindigkeits-Kamera mit der Bewegung des Prüflings synchronisiert werden kann.
Rotations-Wischsimulator Mark I nach Labuda & Schöttle
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Rotations-Wischsimulator Mark II nach Labuda & Schöttle
Der Simulator wurde von Labuda und Schöttle mit dem Ziel entwickelt, den Partikel- und Faserabrieb von Wischmitteln und Schaumstoffen bei wischenden Reinigungsvorgängen über Oberflächen erhöhter Rauheit und speziellen Topographien zu bestimmen. Das Prinzip funktioniert mit vier Schalen aus V4A Stahl, deren Boden jeweils eine höhere Rauigkeit-Stufe aufweist. Darin bewegt sich der mit einer Tuchprobe bespannte Rotor, welcher unter definiertem Druck steht. Nach einer vorbestimmten Anzahl von Rotationen wird die Schale mit den darin enthaltenen abgeriebenen Teilchen aus dem Simulator entfernt und mit partikelfreiem DE Wasser aufgefüllt. Das DE Wasser wird entweder mikroskopisch oder mithilfe eines Flüssigkeits-Partikelzählers auf die Anzahl und Verteilung von Partikeln hin untersucht.
Rotations-Wischsimulator Mark III nach Labuda
Labuda und Schöttle haben im Jahre 2007 den Rotations-Wischsimulator Mark III vorgestellt, mit dem die Messung der Reinigungs-Effektivität von unterschiedlichen HiTech-Reinigungs-Tüchern nun für niederviskose Verunreinigungen (Mineralöl) möglich ist. Eine rotierende Walze aus VA-Stahl und von definierter Oberflächen-Rauigkeit wird durch Auftrag eines dünnen Ölfilms gezielt verunreinigt. Der Abtrag des Ölfilms durch ein an die rotierende Walze angepresstes Reinigungstuch (Prüfling) wird kontinuierlich mittels Laser-Fluoreszenz-Messung gemessen. Mit der gleichen Apparatur ist es außerdem möglich, die Reinigungs-Effektivität von HiTech-Reinigungstüchern pro Zeiteinheit zu bestimmen. So können erstmalig Leistungsparameter für Reinigungs-Tücher definiert werden. Dadurch lassen sich HiTech-Reinigungstücher z. B. nach Präzisions-, Fein- und Standard-Reinigungstüchern klassifizieren.
CC 902 Microlite - Streulicht Partikel-Visualisierung
nach Labuda
Duale Schräglicht-Lampe zur Visualisierung von Partikeln, Faserfragmenten und Material-Abdrücken auf Kollektor-Platten und beliebigen glatten Oberflächen. Mit dieser Lampe kann auf einfache und schnelle Weise die Partikel-Abgabe von verschiedenen HiTech-Tüchern untersucht werden. Ggf. kann auch der Verdampfungs-Rückstand von Lösungsmitteln sichtbar gemacht werden. Das Gerät wird idealerweise mit der CC-Kollektorplatte CC 900 kombiniert. Das Gerät lässt sich zudem auf der Bühne eines Mikroskops platzieren, so dass die auf der Kollektor-Platte befindlichen Teilchen, Spuren etc. betrachtet und fotografisch registriert oder auch automatisch gezählt werden können.
